半导体进入7nm节点，最核心的技术之一就是EUV（极紫外）光刻，然而，设备仅仅来自荷兰ASML（阿斯麦）一家。
今年，ASML最多可以生产12台EUV光刻机（NXE：3400B），单台价格超过1亿欧元，媲美一架美军F35战机。可是，ASML预计，3季度的营收将继续上涨25%。
原来，3400B积压的订单数量已经超过27台，Intel、台积电和三星前不久刚刚加买了8台，不过，此前未发出/生产的货品已经多数来自Intel，可见巨头的既看重又着急。
好消息是，在7月中旬的半导体设备展上，ASML宣布，公司已经达成了最重要且长期难以突破的里程碑：250瓦的EUV光源。
光源功率(source power)──也就是传送到扫描机以实现晶圆曝光的EUV光子(photon)数量之量测值──直接等同于生产力，芯片制造商一直以来都坚持250瓦的光源功率是达成每小时125片晶圆(WPH)生产量的必要条件，即production-ready。
早在2007年，AMD就预言，2012到2013年将是EUV技术量产的开端，但这些年正是因为光源功率不达标，进度十分缓慢，2012年的实际指标仅仅是25W，良率低的可怜。
虽然3400B大部分被Intel买走，但巨头却对何时导入量产三缄其口。
最新消息显示，GF和台积电决定先引入DUV（深紫外光刻）作为7nm第一代，第二代再上EUV。
