中国是全球最大的半导体市场，但是国产化率很低，主要的芯片研发、生产、测试都要依赖国外公司，所以这几年主管部门加大了半导体产业投入，各地投资兴建晶圆厂、封装厂已经屡见不鲜。有了政府扶植，国内公司不差钱，但是并不掌握半导体核心技术，比如光刻机这种芯片制造关键设备就严重落后于Intel、三星等公司。受制于美国等国家的封锁，中国公司有钱也买不到先进光刻机，特别是下一代工艺中至关重要的EUV光刻机，不过EUV光刻机的生产方ASML日前宣布进军中国，将在上海设立一个培训中心。
光刻机是处理器制造过程中非常重要的一步
半导体制造工艺进入10nm之后，难度越来越大，目前在用的193nm光刻技术已经不足以应付未来7nm、5nm工艺需要，所以业界就在研发EUV极紫外光刻工艺。这种光刻机难度非常大，10年前就看到Intel等公司联合研发EUV光刻机的新闻了，到现在EUV光刻机还没有成熟，不过曙光也在眼前了，EUV光刻机已经开始少量出货，产能也在逐步提升，TSMC、三星都会在第二代7nm节点商用EUV工艺。
全球现在能研发EUV光刻机的也就荷兰ASML公司，为此还得到了Intel、TSMC、三星等公司大笔投资，这三家也是目前EUV光刻机最主要的客户。根据他们发布的2016年Q4财报，EUV光刻机去年订单就有18台，总价值超过20亿欧元，换算下来一台EUV光刻机至少要1亿多欧元了，接近8亿人民币。
国内公司忌惮的倒不是价格，而是EUV光刻机现在并不能出口到中国，欧美对中国的高科技出口有限制，国内的半导体公司就算是想买也买不到EUV光刻机。
不过话说回来，中国这么大的市场，ASML公司一直错过机会也不甘心，无论如何也都会进入中国市场。日前他们宣布与中国上海的集成电路研究开发中心（ICRD）达成了合作协议，双方将在上海设立一个培训中心，用于支持ASML客户支持，同时还会对中国境内的集成电路工程师展开技术培训。
这次合作虽然只是培训中心，但也是一个开始，一步到位地在国内出售先进光刻机并不现实。从此前展讯公司的表态来看，美国政府部门并不限制14nm工艺进入中国，否认同级别的TSMC 16nm工艺落户南京也不可能的。