光刻机是集成电路制造过程中的核心设备，也是提升先进工艺的拦路虎，中国半导体工艺提升不上去跟光刻机被禁售也有一定关系。在光刻机领域，特别是即将到来的EUV光刻机市场上，荷兰ASML公司现在成了唯一的选择，尽管一套EUV光刻机售价超过1亿欧元，但是Intel、三星、TSMC公司依然大把砸钱升级EUV光刻机。曾几何时，日本公司在光刻机领域也是称霸一方的，光学实力强劲的尼康、佳能也是光刻机市场巨头，不过现在日系公司在光刻机辉煌不再。意外的是，今天尼康公司宣布在全球起诉ASML及合作伙伴卡尔蔡司侵犯了尼康的专利权。
ASML的EUV光刻机在新一代半导体市场上炙手可热
在光刻机领域，大家现在只知道荷兰ASML公司，EUV光刻机更是要看ASML的进展，但在90年代日本的尼康、佳能公司因为光学实力雄厚，在半导体制造装备领域开拓的也早，当年比ASML公司还要辉煌，Intel之前的半导体工厂就大量使用了尼康的Ar-F immersion光刻机，但是现在包括Intel、TSMC、三星及GF在内的主要半导体公司都转向了ASML的光刻机，前三家公司之前还大笔投资了ASML公司，以推动ASML公司的EUV光刻机研发，同时他们也是ASML EUV光刻机最主要的用户。
后两家去年宣布达成战略合作，ASML斥资20亿美元入股卡尔蔡司SMT公司，双方将合作研发数值孔径在0.5以上的EUV光刻机，可以进一步将目前0.33孔径光刻机的印刷尺寸从13nm减少到5nm，这些技术意义重大，不过难度也很高，预计到2024年才能有产品问世。
尼康在光刻机市场沉沦了这么久，今天忽然宣布起诉荷兰ASML及其合作伙伴卡尔蔡司SMT公司。尼康指出ASML去年76.3%的营收——大约是35亿欧元，都来自沉浸式光刻设备，尼康公司认为这些设备使用了他们的专利技术。尼康将寻求禁令停止侵权设备销售，并要求ASML及卡尔蔡司SMT赔偿他们的损失。
根据尼康所述，2001年他们就在美国起诉ASML公司侵犯了他们的沉浸式光刻技术专利权，2004年双方签署了交叉授权，旧的专利授权是永久性的，部分专利授权到2009年12月31日。
双方同时声明在2010年1月1日到2014年12月31日期间互不起诉双方的专利侵权。
对于尼康公司突然发起专利诉讼，ASML公司随后也作出公开回应，他们指出尼康的指控是毫无根据也毫无必要。过去的几年中，ASML一直希望跟尼康公司就专利授权延长展开谈判，但是尼康公司并未作出回应，现在选择采取法律行动，ASML对此感到失望。
不过ASML依然希望跟尼康公司达成和解，认为双方应该在市场上而非法庭上展开竞争。
PS：话说回来，尼康要是能在市场上竞争过ASML公司何必选择专利战？一旦到了打专利战的地步，说明双方已经无法正面竞争了，毕竟现在的光刻机市场几乎被ASML独占了，尼康的市场份额在新工艺中可以忽略不计了。
光刻机对大多数人来说显得太高端，有兴趣了解半导体制造工艺的读者可以加小超哥（ID：9501417）微信，可以具体咨询处理器制造过程中的每个步骤。
